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天|医药GMP车间的气有何特?

天|医药GMP车间净化R间垂直层式方向要保持均一气流必须Q?br /> (1)吹出面的风速不可有速度上的差异Q?br /> (2)地板回风板吸入面之风速不可有速度上的差异。速度q低或过?0.2m/sQ?.7m/s)均有涡流之现象发生,?.5m/s之速度Q气则较均一Q目前一般洁净室,光速均取在0.25~0.5m/s之间?br /> 影响z净室的气流因素很多Q如制程讑֤、h员、洁净室组装材、照明器L(fng)Q同时对于生产设备上Ҏ(gu)的分流点,亦应列入考虑因素?br /> 净化R间内的工作桌{障物Q在相接处均?x)有涡流现象发生Q相对地在其附近之洁净度将?x)较差,在工作桌面钻上回风孔Q将使涡现象减低?br />

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